第155章 浸没之光，星河长明 (第1/2页)

“神光二号”的成功，如同一剂强心针，让整个微电子装备研究院的士气达到了。

但在随后的战略研讨会上，李晓宇却给所有头脑发热的专家们，泼了一盆冷水。

“同志们，0.25微米，在国际上只能算是跟上了大部队的尾巴。”

他指着投影幕布上，那条代表着摩尔定律的陡峭曲线，语气严峻。

“尼康和佳能，正在全力攻关193纳米的arf干式光刻机，试图冲击0.13微米甚至90纳米的极限。如果我们还是跟在他们屁股后面跑，用传统的干式技术，我们永远也别想超越！”

“所以，”李晓宇的目光变得深邃，“我们要换个赛道，我们要弯道超车！”

他拿起一支记号笔，在白板上画了一个物镜和硅片的示意图，然后在两者之间，画了一层蓝色的波浪。

“浸没式光刻（immersion

lithography）！”

这个词一出，全场鸦雀无声。即使是范·德·维尔这样的顶级专家，也露出了困惑的神情。

“水的折射率是1.44，比空气的1.0要大得多。”李晓宇解释道，“根据瑞利公式，如果在物镜和硅片之间充满超纯水，就相当于变相提高了透镜的数值孔径（na），从而大幅提升光刻机的分辨率！”

“这就好比，你在水里看东西，会觉得物体被放大了。利用这个原理，我们完全可以用现有的193纳米光源，实现134纳米甚至更短的等效波长，一举突破65纳米甚至45纳米的工艺节点！”

“这……这简直是天才的想法！”范·德·维尔猛地站了起来，激动得满脸通红，“但是，李，这里面有两个致命的工程难题。第一，如何保证水的绝对纯净和无气泡？第二，如何在高速运动的工件台上，保持水膜的稳定而不泄漏？”

“这就是我们要攻克的堡垒。”李晓宇看向秦振华和林涛，“秦总，你的制造总院要设计一个精密的液浸喷头，利用流体力学原理，让水流在镜头下形成一个稳定的‘水垫’。林涛，你的算法团队要开发一套‘流场控制模型’，实时监控和调整水流的速度和压力，确保没有一个气泡产生！”

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